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摘要: 层层自组装作为一种新的膜制备技术已被人们应用于渗透汽化膜、纳滤膜等分离膜的研制中,主要介绍了基膜、聚电解质电荷密度、聚合物浓度、分子量、组装层数等因素对膜性能的影响以及近年来人们为提高组装效率所做的一些研究工作。
摘要: 系统总结了室温磁致冷材料的研究现状、存在的问题以及在磁制冷机中的应用情况。对磁热效应的物理本质、影响因素、改善措施进行了归纳。结合磁致冷材料及其在样机中应用的最新进展,预测了室温磁致冷材料的发展趋势。
摘要: 碱金属铌酸盐系无铅压电陶瓷以其优越的压电性能和较高居里温度倍受关注。结合目前有关KNbO3-NaNbO3(KNN)基无铅压电陶瓷的报道,综述了近年来铌酸钠钾基无铅压电陶瓷在粉体制备、陶瓷的成型、烧结以及晶粒取向等制备技术研究的新进展,并从不同方面展望了今后铌酸钠钾基无铅压电陶瓷性能研究及其制备技术上可能的进展。
摘要: 钛酸铋钠(分子式是Bi0.5Na0.5TiO3,简写为BNT)基无铅压电陶瓷性能优良,但与铅基陶瓷相比还有相当的差距,其性能有待进一步提高。从BNT基陶瓷改性、陶瓷新体系以及陶瓷制备技术等多方面,分析了提高BNT基陶瓷性能的原理、途径和方法,指出了发明陶瓷新体系的有关思路,讨论了陶瓷制备技术与陶瓷性能的关系。同时,列举了近期在BNT基陶瓷性能改善研究中的若干新进展和新结果、性能良好的BNT基陶瓷新体系及制备工艺和制备新技术对陶瓷性能的影响,并对今后的相关研究进行了展望。
摘要: 采用基于密度泛函理论和Hartree-Fork的第一性原理方法,计算了CdS、CdSe、CdTe、HgTe等Ⅱ-Ⅵ族化合物中原子间的两体及三体相互作用势,分析了基组及计算方法的选择对计算结果的影响。采用Lennard-Jones、Born-Mayer和Morse势函数对两体相互作用势进行拟合,得到相应的拟合参数及误差值,结果表明普遍应用于共价分子的Morse势也同样适用于Ⅱ-Ⅵ族原子二聚体。考虑到多体相互作用势必须考虑角度因素,采用Stilling-Weber势函数对三体势进行了拟合研究,结果亦较为理想。
摘要: 对注射成形粘结Nd-Fe-N/Nd-Fe-B复合磁体及其复合效应进行了深入的研究,以制备满足市场所需的粘结磁体并扩大Nd-Fe-N的应用。实验结果表明:随着Nd-Fe-B磁粉的加入,复合磁体的抗压强度虽略有降低,但其磁性能及热稳定性均有大幅度改善。特别是由于Nd-Fe-B磁粉对弥散其周围的Nd-Fe-N磁粉产生了一较强的静磁场作用,使得复合磁体呈现明显的剩磁增强效应。
摘要: 在盐酸介质中,应用循环伏安法通过电聚合在氧化铟锡(ITO)透明导电玻璃上形成聚邻甲氧基苯胺薄膜。用紫外可见光谱方法测定了聚合物薄膜在不同pH下的特征吸收光谱,聚邻甲氧基苯胺薄膜的λmax在557~746nm之间,作出了相应的滴定曲线。结果表明,在pH为1~12范围内聚合物薄膜对pH的变化表现了极高的光学敏感性,其表观pKa约为6.4。应用聚邻甲氧基苯胺薄膜测定了不同pH的溶液,其测定结果与精密酸度计相比误差〈±4%。
摘要: 采用静滴法观察了液态纯固化剂和20%树脂-80%固化剂混合液体与铜基材料的润湿行为,测定了298~363K温度范围内的接触角,评价了两种液体与铜基材料的润湿性。结果表明,接触角随时间呈下降趋势,初始接触角随着试样中环氧树脂比例的增加而降低,温度对固化剂平衡接触角的影响较小。在同样的温度条件下,加入树脂后的液体的平衡接触角小于纯固化剂的平衡接触角。
摘要: 采用氧气等离子体(OP)处理对氧化铟锡(ITO)薄膜进行表面改性,通过原子力显微镜(AFM)、X射线光电子能谱(XPS)和四探针等测试手段对薄膜样品进行表征,研究了OP处理对ITO表面性质的影响。实验结果表明OP处理有效去除了ITO表面的污染物,优化了ITO表面的化学组分,降低了ITO表面的粗糙度和方块电阻,改善了ITO的表面形态。与此同时,通过XPS监测研究了OP处理后ITO表面化学组分随老化时间的变化,结果显示经过优化的化学组分随老化时间增加而逐渐退化。另外,以OP处理后经过不同老化时间的ITO样品作为空穴注入电极,制备了有机电致发光器件(OELD),通过测试器件的电压-电流-亮度特性,进一步研究了ITO表面性质对于OELD光电性能的影响。
摘要: 用原位合成法在Si/C/N纳米粉表面包覆聚苯胺,制备出聚苯胺与Si/C/N复合材料,复合粉体近似球形,粒径为1~3μm。研究了聚苯胺与Si/C/N复合粉在8.2~12.4GHz的微波介电特性,与纳米Si/C/N相比,聚苯胺与Si/C/N复合粉体的ε′、ε″和tanδ有所增加,ε′在5.16~5.88范围内波动,ε″的变化范围为1.96~2.53,介电损耗角正切值达到了0.43,具有较好的微波介电特性。在8~12.4GHz范围内随频率的增加,聚苯胺与Si/C/N复合粉体的ε′、ε″和tanδ值均出现频响效应,是较为理想的微波吸收材料。
摘要: WO3薄膜是良好的光学气敏传感器材料。采用溶胶凝胶法制备了WO3掺杂薄膜,对样品在不同浓度氢气气氛中的气敏光学性质、敏感度及响应时间进行了测试、分析和计算,并结合光传输理论给出了气敏薄膜的光学变化机制,理论分析与实验结论吻合。
摘要: 研究了H^+离子注入对InP材料和1.3μm面发射激光器结构的电学、光学性能的影响。当离子注入后InP表面电学特性退化,在300℃以上退火后,材料表面回复较好,H^+离子注入区电阻率约为InP体材料的10^4倍。接着,将离子注入工艺应用于1.3μm面发射激光器结构电流限制孔径的制作,通过比较电学特性得出450℃的最佳退火温度,并发现高温退火后电致发光强度增强。
摘要: 使用溶胶凝胶法制备了Pb(Zr0.52Ti0.48)O3铁电薄膜,分别利用原子力显微镜、X射线衍射及面探扫描技术分析了薄膜的组织结构,并运用掠入射X射线衍射法研究了不同工艺条件下制备的薄膜的残余应力。研究表明溶胶凝胶薄膜在600℃退火30min后完全晶化,组织结构均匀。不同工艺下制备的薄膜均受残余拉应力,随着退火温度及退火时间的延长,薄膜中的残余应力逐渐增大,而随着薄膜厚度的增加,残余应力先增大然后减小。
摘要: 通过低温(90℃)旋转喷雾镀覆方法成功地将尖晶石NiZnCo铁氧体颗粒薄膜沉积在外加2.38×10^4A/m偏置场的玻璃衬底上。制备的薄膜有1.27×10^2Ω·cm高的电阻率,2.78×10^5A/m大的饱和磁化强度和692.52A/m低的矫顽力。由弱交变磁场作用下磁畴转动磁化强度的进动方程,建立了铁氧体膜高频等效磁导率的计算模型。在50MHz~5GHz频率范围通过短路微带线法测量了薄膜的复数磁导率。薄膜的复磁导率的实部μ′在300MHz处高达80.9,而薄膜的共振频率高达2.1GHz。薄膜的磁损耗μ″在共振频率处达到最大值61.7,且在1~3.5GHz宽频范围μ″〉15。测量结果和模型计算结果比较有相同的共振频率和相同数量级的磁导率。由于μ″×f和噪声吸收成比例,这种软磁薄膜可应用于微波频段的电磁干扰抑制器。
摘要: 采用改良的化学共沉淀法制备锰锌铁氧体磁性纳米粒子,聚乙烯亚胺(PEI)对其进行表面修饰。利用XRD、EDS、TEM、SEM、FTIR、XPS、UV-vis、Ze-ta电位仪、电泳仪、荧光显微镜等手段对其形貌、物象、成份、表面包覆功能团、元素组成、表面电位、磁响应性、DNA结合保护、体外释放及转染能力进行表征。体外加热实验验证其升温恒温能力。XRD及EDS确认已成功制备锰锌铁氧体磁性纳米粒子。修饰后的磁性纳米粒子具有良好的分散性、磁响应性及升温恒温能力。红外光谱及XPS分析验证了PEI在磁性纳米粒子表面的吸附。修饰后磁性纳米粒子的等电点由pH=7.0移至pH=11.0。具有良好的DNA结合保护转染能力。有利于其在生物医学领域的应用。
摘要: 烧结NdFeB材料因其优异的磁性能特点而获得广泛应用,但它耐蚀性差,容易氧化腐蚀,而且NdFeB材料在烧结后需进行成型加工。对NdFeB材料进行了超声振动辅助电火花加工实验研究并探讨了这种能提高加工表面耐蚀性的新型方法。实验结果表明电火花加工后在材料的表面形成了一层非金属合金,从而提高了材料表面的耐蚀性。
摘要: 利用有限元法对永磁铁氧体材料烧结过程的瞬态应力场进行了数值模拟分析,讨论了温度场变化对铁氧体磁瓦内部热应力的影响,得出磁瓦在烧结过程中的等效应力分布云图,结合分布图与热传导方程讨论了磁瓦烧结开裂问题中产生边裂和角裂的原因。同时分析了升温速率对应力场的影响,该分析结果反映了升温速率对磁瓦内部热应力最大值的影响规律。模拟结果为磁瓦烧结工艺制度的制定提供理论依据。
摘要: 利用2-吡咯烷酮和乙酰丙酮铁为原料制备出Fe3O4磁性纳米粒子,选择偶联剂γ-氨丙基三乙氧基硅烷(NH2C3H6Si(OC2H5)3)对磁性材料进行了表面修饰。经XRD、TEM、VSM、FT-IR测试结果表明,制备出的Fe3O4磁性纳米粒子粒径均一(8~10nm)、结晶度高、磁响应较强;通过控制反应回流时间,可以改变粒子的大小;经表面改性以后,—OH、—NH、—NH2、—C—O、—C—OH等多种功能基团负载到磁性Fe3O4纳米粒子表面,增强了微球的生物相容性。