《微细加工技术》杂志投稿要求,如下:
(1)题目:应反映文章主要内容,一般不用副标题,不超过20个汉字,避免使用非公知的外文缩写。
(2)本刊将对一稿两投者表示公开谴责,通知作者单位,并2年内拒绝该文第一作者的任何来稿。
(3)来稿一经采用,因人力所限一般不退稿,请作者自留底稿,文稿署名自便,但来稿请注明作者真实姓名、单位、职称、通讯地址、邮政编码及电话,以便联系。
(4)注释时,必须将其作者姓名、文献名、出版社、出版时间、所属页码一并注出。
(5)参考文献:作者年份制,正文中以(作者,年份)形式置于对应处;详细内容采用文后注形式,中文在前、英文在后,以音序排序,具体著录格式见附件。
微细加工技术杂志发文分析
微细加工技术主要机构发文分析
| 机构名称 | 发文量 | 主要研究主题 |
| 中国科学院 | 192 | 光刻;电子束曝光;曝光机;电子束曝光机;掩模 |
| 上海交通大学 | 129 | 微机电系统;电系统;机电系统;MEMS;刻蚀 |
| 清华大学 | 60 | 微细;光刻;微细加工;离子束;聚焦离子束 |
| 中国科学技术大学 | 47 | 刻蚀;离子束;离子束刻蚀;光刻;衍射 |
| 电子工业部 | 46 | 离子注入;注入机;离子注入机;半导体;电路 |
| 中国科学院微电子研究所 | 38 | 光刻;掩模;X射线光刻;电子束曝光;分辨率 |
| 中国科学院长春光学精密机械与... | 34 | 光栅;MEMS;刻蚀;光刻;传感 |
| 山东大学 | 29 | 电子束;电子束曝光;曝光机;电子束光刻;电子束曝光机 |
| 山东工业大学 | 28 | 电子束曝光;曝光机;电子束曝光机;电子束;电路 |
| 华中理工大学 | 26 | 刻蚀;溅射;半导体;等离子体;离子束 |
《微细加工技术》杂志是由中国电子科技集团公司第48研究所主办的双月刊,审稿周期预计为3-6个月。该杂志的栏目设置丰富多样,涵盖综述、电子束技术、离子束技术、光子束技术、薄膜技术、微机械加工技术、纳米技术等。
该杂志为学者们提供了一个交流学术成果和经验的平台,发表的文章具有较高的学术水平和实践价值,为读者提供更多的实践案例和行业信息,得到了广大读者的广泛关注和引用。