《电子工业专用设备》杂志投稿要求,如下:
(1)要求论文标题简明、醒目,论文格式规范,论文自带中/英文摘要(200字左右)及3~5个关键词。
(2)投稿论文后,编辑部收到稿件后一个月内通知作者初审结果,在此期间请勿一稿多投。
(3)正文应条理清晰,层次分明。文中插图应比例适当、清楚美观,标明图序与图题;表格应结构简洁,尽量采用“三线表”,必要时可添加辅助线,要有表序与表题。
(4)本刊统一采用页底脚注的形式,每页注释重新编号,注释序号用①,②……标识。注码置于引文结束的标点符号之后右上方。
(5)计量和计数单位前需使用阿拉伯数字,外文字母、上下角标、黑白体、大小写应准确表达,对易混淆的请用铅笔标注。
电子工业专用设备杂志发文分析
电子工业专用设备主要机构发文分析
机构名称 | 发文量 | 主要研究主题 |
中国电子科技集团公司第四十五... | 646 | 半导体;光刻;晶圆;电机;抛光 |
中国电子科技集团公司第二研究... | 229 | 真空;电池;低温共烧陶瓷;太阳能;封装 |
中国电子科技集团公司第四十八... | 168 | 电池;太阳能电池;太阳能;均匀性;离子注入 |
中国电子科技集团公司第四十六... | 118 | 单晶;硅单晶;硅片;晶片;区熔 |
电子工业部 | 115 | 半导体;光刻;曝光机;切片;切片机 |
北京中电科电子装备有限公司 | 92 | 晶圆;划片;划片机;键合;封装 |
中华人民共和国工业和信息化部 | 75 | 光刻;电路;电子专用设备;集成电路;半导体 |
中国电子科技集团公司 | 68 | 电路;集成电路;化学机械抛光;机械抛光;晶片 |
中国电子科技集团第十三研究所 | 66 | 光刻;刻蚀;激光;光刻机;投影光刻 |
中国科学院 | 54 | 光刻;光刻机;电路;半导体;电子束曝光 |
《电子工业专用设备》杂志是由中国电子科技集团公司第四十五研究所主办的双月刊,审稿周期预计为1个月内。该杂志的栏目设置丰富多样,涵盖先进封装技术与设备、半导体制造工艺与设备、电子专用设备研究、专用设备维护与保养等。
该杂志为学者们提供了一个交流学术成果和经验的平台,发表的文章具有较高的学术水平和实践价值,为读者提供更多的实践案例和行业信息,得到了广大读者的广泛关注和引用。