《电子工业专用设备》杂志审稿周期为预计1个月内。
以下是查询杂志审稿周期的方法:
1、查看期刊官网:许多杂志会在其官方网站的 “作者须知”“投稿指南” 或 “常见问题” 等板块中,明确给出大致的审稿周期。
2、参考作者投稿经验分享:可以在一些相关的学术交流平台上,搜索杂志的名称,其中通常会提到从投稿到收到审稿意见的时间,从而了解其大致的审稿周期。
3、分析期刊过往发表文章:随机选取该杂志最近几期发表的文章,查看每篇文章的投稿日期、接收日期和发表日期,通过计算时间间隔,能对该杂志的审稿及发表速度有一个直观的认识。
4、咨询期刊编辑:如果在官网上未找到明确的审稿周期信息,也没有找到合适的作者投稿经验分享,可以直接通过期刊官网提供的联系方式咨询。
《电子工业专用设备》杂志创刊于1971年,是由中国电子科技集团公司主管的学术理论期刊,该杂志为双月刊,国内外公开发行,国内刊号为CN 62-1077/TN,国际刊号为ISSN 1004-4507,杂志社位于北京市朝阳区安贞西里26号浙江大厦913室。
该杂志的办刊宗旨是反映电子改革与发展的最新成果,探索电子规律,为深化电子改革、繁荣电子科学服务。其内容突出理论性、学术性、实用性和探索性等特点,主要栏目包括先进封装技术与设备、半导体制造工艺与设备、电子专用设备研究、专用设备维护与保养等。
《电子工业专用设备》杂志在全国影响力巨大,创刊于1971年,公开发行的双月刊杂志。创刊以来,办刊质量和水平不断提高,主要栏目设置有:趋势与展望、专题报道、IC前沿制程、封装与测试、行业快讯、新技术应用、企业介绍等。
《电子工业专用设备》是目前国内电子专用设备领域唯一获正规出版发行的权威专业刊物,多年来为推动我国电子专用设备的发展发挥了极其重要的作用。
电子工业专用设备杂志发文分析
电子工业专用设备主要机构发文分析
机构名称 | 发文量 | 主要研究主题 |
中国电子科技集团公司第四十五... | 646 | 半导体;光刻;晶圆;电机;抛光 |
中国电子科技集团公司第二研究... | 229 | 真空;电池;低温共烧陶瓷;太阳能;封装 |
中国电子科技集团公司第四十八... | 168 | 电池;太阳能电池;太阳能;均匀性;离子注入 |
中国电子科技集团公司第四十六... | 118 | 单晶;硅单晶;硅片;晶片;区熔 |
电子工业部 | 115 | 半导体;光刻;曝光机;切片;切片机 |
北京中电科电子装备有限公司 | 92 | 晶圆;划片;划片机;键合;封装 |
中华人民共和国工业和信息化部 | 75 | 光刻;电路;电子专用设备;集成电路;半导体 |
中国电子科技集团公司 | 68 | 电路;集成电路;化学机械抛光;机械抛光;晶片 |
中国电子科技集团第十三研究所 | 66 | 光刻;刻蚀;激光;光刻机;投影光刻 |
中国科学院 | 54 | 光刻;光刻机;电路;半导体;电子束曝光 |
电子工业专用设备主要资助项目分析
资助项目 | 涉及文献 |
国家自然科学基金 | 39 |
国家高技术研究发展计划 | 37 |
国家科技重大专项 | 29 |
国家重点基础研究发展计划 | 7 |
海南省自然科学基金 | 6 |
湖南省自然科学基金 | 3 |
国家火炬计划 | 3 |
国防基础科研计划 | 2 |
电子信息产业发展基金 | 2 |
国际科技合作与交流专项项目 | 2 |