摘要:采用直流磁控溅射法,以P型单晶硅为基体材料,通过调整溅射时间制备出不同厚度的NdFeB薄膜。然后对不同厚度的薄膜运用相关仪器进行表征,结果表明,NdFeB薄膜厚度随着溅射时间的延长呈现近似线性增加,不同溅射时间段的沉积速率近似相同。矫顽力随着薄膜的厚度和Nd含量的增加而增加,薄膜中F的含量由84.01%降至81.65%,Nd含量由10.73%升至13.10%,B含量在5.25%~5.38%范围内浮动。
注:因版权方要求,不能公开全文,如需全文,请咨询杂志社
相关期刊
期刊名称:材料导报
期刊级别:北大期刊
期刊人气:16994