强激光与粒子束杂志 北大期刊 CSCD期刊 统计源期刊

强激光与粒子束 2008年第09期杂志 文档列表

强激光与粒子束杂志高功率激光与光学

高次谐波产生阿秒极紫外和X光脉冲研究新进展1409-1412

摘要：近年来在可见光谱范围内已经把激光脉冲压缩到接近一个光学周期（2～3fs）的物理极限，几fs的时间分辨精度可以描述分子化学反应过程，但是要探测远小于可见光周期的电子跃迁过程则需要阿秒（as）量级的光脉冲。利用脉冲间具有相同载波包络相位的阿秒脉冲序列能把可见光波段的光学频率梳向极紫外波段扩展；利用电子和离子碰撞复合过程短于一个光周期这个时间窗，通过测量激光场椭圆极化率对电子轨迹的微扰实现了as精度的分辨率；通过测量碰撞复合过程中的高能电子的辐射谱可以重构阿秒X光脉冲以及探测强场下束缚态和连续态电子动力学。

高功率固体激光装置哈特曼传感器参考波前标定方法1413-1416

摘要：在高功率固体激光驱动器中，参考波前标定是自适应光学系统应用过程中的关键技术之一。基于国内某大型激光原型装置光路特点，对比研究了两种不同的参考波前标定方法，详细分析了两种方法的标定过程和影响标定结果准确性的主要因素，选取了较为准确的参考波前标定结果。基于该参考波前，对AO系统闭环和开环条件下的远场进行了对比测试，实验证明了标定结果的有效性。该研究结果成功应用于该激光原型装置的AO系统波前补偿实验。

成像法测量脉冲激光远场能量密度的模型及不确定度分析1417-1420

摘要：设计了基于漫反射成像法测量脉冲激光远场能量分布的方案，在相机标定的基础上建立了CCD图像灰度值与漫反射板上脉冲激光能量密度对应关系的数学模型．该模型考虑了漫反射板的漫反射率和CCD像元响应度的空间不一致性，并对不同测量位置的离轴角的影响进行了修正。分析表明：CCD灰度值、镜头透过率、漫反射率和CCD响应度的不确定度传播系数为1，镜头光圈数的不确定度传播系数为2，镜头焦距的不确定传播系数随离轴角增大而增大，成像中心像素坐标的不确定度传播系数在图像顶点处最大。针对相机标定实验中发现的利用Tsai单视角共面点标定相机得到的镜头焦距与实际存在较大偏差问题，指出对于定焦镜头，应该采用其它离线方法进行准确标定；对于变焦镜头，可采用单视角非共面点或多视角共面点进行在线标定。

级联介质系统中多散射点形成热像的数值分析1421-1425

摘要：以5片带增益损耗的级联介质板为例，数值模拟分析了高功率激光器系统中，由垂轴平面内多个散射点形成热像的演化规律，讨论了散射点参数对散射光之间相互作用的影响。模拟结果表明：无论这些共面的散射点同时或分别单独存在，其形成的热像点亦共面，只是同时存在时对应的热像峰值强度比单独存在时低；当不同参数散射点引起的散射光在从背景光场中提取能量形成热像时，提取能量的竞争并不平等，最终会导致某些散射光在能量竞争中处于优势，最终形成的热像得到加强，而其它散射光形成的热像受到抑制。

高密度封装二极管激光器阵列1426-1430

摘要：理论模拟了自制的高效冷却器的散热能力．分析了单元封装结构所需材料的导热特性，获得了高功率二极管激光器在高功率密度、高占空比条件下运行的可行性。改进了高密度封装的关键工艺，热沉金属化层达到了3～5μm，焊料厚度为4～7μm，封装间距0．6mm，采用峰值功率1kW的背冷式叠阵二极管激光器。实验测试结果表明：封装的二极管激光器叠阵单元的整体封装热阻为0．115℃／W．有良好的散热能力；该叠阵模块在电流为100A、占空比15％时，输出峰值功率为986W，峰值功率密度达到1．5kW／cm^2，平均每个板条的斜效率为1．25W／A，激光器阈值电流为20A左右。

全国第七届高功率微波学术研讨会召开1430-1430

摘要：2008年9月16～19日，由中国工程物理研究院应用电子学研究所承办，流体物理研究所及科学技术协会协办的全国第七届高功率微波学术研讨会在四川峨嵋召开。会议邀请了国家专题专家组13位专家莅临并参会。来自中电集团、中科院电子所、国防科技大学、解放军信息工程大学等17个国家重要研究单位及院校的140余位代表出席了本次大会。

周期性啁啾脉冲色散衍射实现近场强度匀滑1431-1436

摘要：对惯性约束聚变（ICF）激光驱动器中的周期性啁啾脉冲光谱色散后的自由空间衍射传输和近场强度匀滑特性进行了理论分析和数值模拟，并计算了色循环数对两者的影响。计算结果表明：远场光斑随色循环数增加而变大，强度调制加剧；近场强度匀滑效果随色循环数和传输距离增加而增强，但空间形状变化加剧。通过匀滑效果对比发现，基于周期性啁啾脉冲的光谱色散平滑系统的近场强度匀滑效果优于传统的正弦调频光束。

大能量长脉冲TECO2激光器1437-1440

摘要：研制了一台基于pulser／sustainer放电技术，增益体积为2．48L的大能量长脉冲紫外预电离TECO2激光器。利用14nF的pulser电容控制200nF的sustainer电容，通过优化激光器激励电路网络参数以及张氏电极进行修正，实现了稳定的辉光放电，获得了最高达135J的能量注入。在激光工作气体CO2，N2，He混合体积比为1：2．5：13，气压为40kPa的条件下，最大激光输出脉冲能量达18．51J，激光脉冲宽度约为30μs，电光转换效率高达14．3％。

液晶空间光调制器光谱整形的理论研究1441-1446

摘要：将液晶空间光调制器用于超高斯种子脉冲光谱整形，重点分析了调制器参数对压缩脉冲信噪比的影响，以此为依据对其结构参数进行优化设计，以降低其影响。对整形、放大及压缩过程的理论模拟表明：应用液晶空间光调制器进行光谱整形时，能够有效克服钕玻璃啁啾脉冲放大系统的非线性效应，在放大器输出端保持原始光谱宽度，但液晶空间光调制器对光谱的调制作用使压缩脉冲信噪比降低。

高斯光束通过含失调窄缝光阑的失调光学系统的传输特性1447-1451

摘要：利用硬边窄缝光阑的近似展开式和适用于失调光学系统的广义衍射公式，得出了高斯光束经含失调窄缝光阑的失调光学系统传输的近似解析式。模拟结果表明输出光束场分布与光束参量、光阑尺寸、AB—CD矩阵元、光阑失调量和光学系统失调量有关。针对给定的光学系统和高斯光束定量分析了各失调量对输出光束场分布的影响．结果表明：光阑横向位移、光学系统横向位移和角位移均引起垂直于z轴截面内明显的光强非轴对称分布。当光阑半宽度为1mm时，光阑的衍射作用使腰斑半径为0．5mm的高斯光束产生-1．586π～1．465π范围的相对相移，且光阑横向位移、光学系统横向位移和角位移均引起焦平面前后相对相移的迅速变化。随光阑宽度变小，各失调量对输出光束特性的影响越明显。

强激光与粒子束杂志ICF与激光等离子体

ICF靶用泡沫铜的制备与表征1452-1456

摘要：以次磷酸钠为还原剂的化学镀进行导电化处理，研究了ICF靶用泡沫铜的电沉积工艺。采用扫描电子显微境和X射线衍射仪对制备过程中各阶段泡沫铜的微观结构进行了表征。结果表明：经化学镀后可获得晶粒尺寸小、分布均匀的铜沉积层。电沉积后铜沉积层主要由0．55μm的小颗粒组成，并且出现突出大颗粒的形貌特征。在氢气氛围下，经700℃热处理后，铜颗粒进一步长大，沉积层结晶致密。制备的泡沫铜呈3维网络状结构，分布均匀密度为0．19g／cm^3，孔径分布为400-600μm，孔隙率达97．9％。

1064nm与532nm激光对电子束蒸发制备的HfO2／SiO2高反膜损伤比较1457-1460

摘要：研究了电子束蒸发制备的HfO2／SiO2高反膜在1064nm与532nm激光辐照下的损伤行为。基频激光辐照时损伤形貌主要为节瘤缺陷喷溅留下的锥形坑。当能量密度较大时出现分层剥落；二倍频激光损伤主要是由电子缺陷引起的平底坑，辐照脉冲能量密度稍高时也会产生吸收性缺陷引起的锥形坑，但电子缺陷的损伤阈值更低；随着辐照脉冲能量密度的增大分层剥落逐渐成为主要的损伤形貌。分析认为，辐照激光波长的变化。引起吸收机制的变化从而导致了损伤阈值及损伤机制的差异。

激光原型装置光纤前端系统偏振稳定控制技术1461-1464

摘要：分析了激光原型装置光纤前端系统的偏振特性，针对激光原型装置光纤前端系统窄光谱、短脉冲的特点以及该原型装置对光纤前端系统输出偏振态的要求，提出了一种稳定光纤前端系统输出偏振态的新方法。采用脉冲方式偏置光纤前端系统的幅度调制器，通过光纤偏振稳定装置在线检测幅度调制器泄漏连续激光的偏振态进行自动调整，实现了光纤前端系统偏振态的自动稳偏，解决了波导幅度调制器长时间工作后消光比下降的问题。光纤前端系统长时间工作输出的稳定度达到了2．9％。

靶丸表面缺陷对功率谱影响的数值模拟1465-1468

摘要：对ICF靶丸表面“颗粒状”缺陷与功率谱的关系进行了理论研究，采用Matlab软件。数值模拟分析了靶丸表面颗粒的高度、粒径、分布、颗粒数目以及随机噪声等对功率谱曲线的影响。数值模拟结果表明：靶丸表面缺陷对功率谱影响较大，缺陷高度的增加、粒径的减小以及数目的增加都会导致功率谱起伏增大；同时，缺陷高度导致的功率谱起伏变化比缺陷粒径对功率谱的影响更为严重，而缺陷数目的增加不但导致功率谱起伏的增大，同时也引起功率谱曲线中呈现一些周期性的特征。

层间热处理对SiO2／ZrO2双层膜的影响1469-1473

摘要：以正硅酸乙酯和丙醇锆为前驱体，用溶胶-凝胶法在K9基片上提拉镀制SiO2／ZrO2双层膜。采用不同实验步骤制备了2个样品，样品1镀完SiO2后直接镀ZrO2，样品2镀完SiO2经热处理后再镀ZrO2。采用原子力显微镜、椭偏仪、紫外-可见分光光度计对薄膜进行表征。针对SiO2／ZrO2双层膜，考虑到膜间渗透的影响，采用3层Cauchy模型进行椭偏模拟，椭偏参数的模拟值曲线与椭偏仪的测量值曲线十分吻合，进而发现热处理可以使SiO2／ZrO2双层膜之间的渗透减少近23nm，从而提高其峰值透射率。利用输出波长1．064μm，脉宽8．1ns的激光束对样品进行了损伤阈值的测试，用光学显微镜观察损伤形貌，结果发现两者损伤阈值分别为13．6J／cm^2和14．18J／cm^2，均为膜的本征损伤。

用于KDP晶体的桥式聚倍半硅氧烷防潮膜1474-1478

摘要：以间苯亚甲基二异氰酸酯与氨丙基三乙氧基硅烷反应制备了具有长桥链结构的聚倍半硅氧烷前驱体，利用制备的前驱体在碱性条件下水解缩聚制备了桥式聚倍半硅氧烷溶胶，并采用提拉浸涂法对磷酸二氢钾（KDP）晶体镀膜。通过^1H NMR对前驱体进行结构定性，利用^19Si MASNMR和N2吸附-脱附表征对凝胶结构进行了分析，用AFM对薄膜的表面形貌进行了研究，通过湿度为60％时KDP晶体光学性质的变化考察了薄膜的防潮性能。利用三倍频和基频激光测试了薄膜的抗激光损伤性能。结果表明；这种桥式聚倍半硅氧烷薄膜对KDP晶体具有很好的防潮保护作用．并显示了较好的抗激光损伤性能。

聚乙烯醇／二氧化硅复合增透膜的制备和可清除性1479-1482

摘要：用溶胶-凝胶法制备了易清洗的聚乙烯醇／二氧化硅（PVA／SiO2）复合增透膜。先在K9玻璃基片上镀制PVA薄膜，然后在PVA薄膜上镀上二氧化硅增透膜。用紫外可见光分光光度计、椭偏仪、光学显微镜、扫描探针显微镜和静滴接触角测量仪分别分析了膜层和基片的透射率、膜层厚度和折射率、表面形貌、水接触角等性质，用去离子水作溶剂对复合膜层进行清洗。结果表明：聚乙烯醇／二氧化硅复合增透膜峰值透射率达到99．8％，峰值透射率位置可以随SiO2厚度而调节。复合膜层能够被热水清除，清除后基片完好，其透射率、表面形貌和水接触角与镀膜前一致。

熔石英表面铜膜污染物诱导损伤实验研究1483-1486

摘要：在熔石英元件表面溅射一层厚度小于10nm的金属铜膜污染物，并测试元件的透过率。测试355nm熔石英元件的激光损伤阈值，并用光学显微镜观测损伤形态。实验结果表明：污染后的熔石英元件的损伤阈值降低20％左右，元件表面的金属污染物薄膜经强激光辐照，在熔石英表面形成很多坑状微损伤，分布不均的热应力导致表面起伏，并有明显的烧蚀现象，导致基底损伤阈值下降。建立的光吸收和热沉积传输模型初步解释污染物膜层导致熔石英元件损伤的机理。