强激光与粒子束杂志

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强激光与粒子束杂志 北大期刊 CSCD期刊 统计源期刊

High Power Laser and Particle Beams

  • 51-1311/O4 国内刊号
  • 1001-4322 国际刊号
  • 0.4 影响因子
  • 1-3个月下单 审稿周期
强激光与粒子束是中国工程物理研究院;中国核学会;四川核学会主办的一本学术期刊,主要刊载该领域内的原创性研究论文、综述和评论等。杂志于1989年创刊,目前已被CSCD 中国科学引文数据库来源期刊(含扩展版)、SA 科学文摘(英)等知名数据库收录,是四川省科学技术协会主管的国家重点学术期刊之一。强激光与粒子束在学术界享有很高的声誉和影响力,该期刊发表的文章具有较高的学术水平和实践价值,为读者提供更多的实践案例和行业信息,得到了广大读者的广泛关注和引用。
栏目设置:激光大气传输技术专题、讯息、高功率微波技术、粒子束及加速器技术、脉冲功率技术、核科学与工程

强激光与粒子束 2008年第06期杂志 文档列表

强激光与粒子束杂志高功率激光与光学
瑞利散射多普勒测风激光雷达的校准881-884

摘要:在进行实际风速测量之前,对于新研制的测风激光雷达系统进行校准,可以验证并提高风速测量的准确性。根据瑞利散射多普勒激光雷达的测量原理,提出了利用瑞利散射谱和米散射谱之间的关系,采用运动硬目标实现对瑞利散射多普勒测风激光雷达进行校准的方法。设计了对瑞利散射多普勒测风激光雷达进行校准的实验系统,并给出了详细的校准步骤。

椭偏光散射分析类金刚石薄膜的散射特性885-890

摘要:基于光学薄膜反射椭偏法的测量原理,对光学薄膜散射椭偏特性进行了研究。给出了光学薄膜散射逆问题的解决方法,并对不同脉冲频率下采用脉冲真空电弧离子镀技术沉积的类金刚石薄膜的散射特性进行了研究。分析了光学薄膜界面的相关特性以及膜层中局部缺陷对散射光椭偏特性的影响。结果表明:随着脉冲频率的增加,所沉积的类金刚石薄膜的相关性变差,且薄膜中的局部缺陷引起的体散射越明显。

紧凑型窄线宽分布反馈光纤激光器891-893

摘要:在铒/镱共掺杂有源光纤上直接刻蚀光栅,制成一台紧凑型非对称π相移分布反馈光纤激光器。光栅总长度约50mm.最佳相移位置在29mm处,最佳耦合系数为150m^-1。采用980nm激光二极管同向泵浦。当最大泵浦功率为200mW时,在1550.94nm处实现约10mW激光输出,线宽小于0.05nm。阈值约35mW,斜率效率为6.06%.总光一光转换效率为5%,基本满足长距离光通信系统光源功率实用化的要求。

氧分压对HfO2薄膜残余应力的影响及有限元分析894-898

摘要:利用电子束蒸发法制备了单层HfO2膜,控制氧气流量从0mL/min以步长5mL/min递增至25mL/min(标况下)。利用ZYGO干涉仪测量基片镀膜前后的面形变化,代入Stoney公式计算出残余应力,分析了不同氧压下残余应力的变化情况。随着氧压的增大,残余应力由张应力逐渐过渡到压应力,当氧压过大时.压应力减小。因此可以通过改变氧压来控制应力。应力的变化与薄膜的微观结构密切相关,分析了所有样品的X射线衍射图(XRD),发现均为非晶结构。利用Ansys建立基片-薄膜有限元模型,将应力作用下基片的形变与实验结果进行对比,验证所建立的模型,为分析HfO2/SiO2膜堆应力的匹配设计提供参考。

CH4/H2和CH4/He体系等离子体发射光谱分析899-902

摘要:在CH4/H2和CH4/He两种系统中,利用光学发射谱技术对螺旋波放电产生低压甲烷等离子体内活性粒子的光学发射特征进行了原位诊断。在实验中,两种体系下同时都测得的主要荷电粒子为CH,Hα,Hβ,Hγ以及H2等。研究了各实验参数对这些活性粒子CH,Hα,Hβ以及Hγ的发射光谱强度的影响。结果表明:在CH4/H2体系下,随着射频功率的增大,Hα,Hβ,Hγ以及CH基团的相对强度都随着增加,而当放电气压变化时它们都呈现先增大而后减小的趋势。在CH4/He体系下,随射频功率的增加,Hα,Hβ,Hγ,以及CH相对强度变化的总体趋势也都是先增加而后减小,当工作气压增加时,Hα,Hβ,以及Hγ的相对强度变化也是呈现先增大而后减小,但CH基团的相对强度却是逐渐减小的;这些结果为等离子体沉积各种薄膜过程的理解及制备工艺参数的调整提供了参考。

部分相干电磁光束的焦移903-906

摘要:基于有效菲涅耳数的概念,给出一种简单的表达式来评估部分相干电磁光束经圆形光阑透镜后所产生的相对焦移,对部分相干电磁光束经透镜聚焦的情况进行了研究。结果表明:当交叉谱密度函数的非对角元素为零时,有效菲涅耳数不仅依赖于真实的菲涅耳数大小,而且依赖于光束的偏振分布和入射部分相干电磁光束两个偏振分量的空间相干长度;相对焦移量仅由等效菲涅耳数决定。将此方法与数值积分法进行的比较表明,等效菲涅耳数可以简单、准确地评估焦移。

超短脉冲激光辐照硅膜的热弹性907-911

摘要:考虑到热电子崩力的影响,在基于玻耳兹曼理论弛豫时间近似的非线性自相关模型基础上,将晶格温度与应变速率相耦合,建立了超短脉冲激光作用下半导体材料的超快热弹性模型。在单轴应变条件下,利用有限差分法模拟了500 fs脉冲激光作用下2μm厚硅膜内的载流子温度、晶格温度、载流子数密度、热应力和热电子崩力等的变化情况。结果表明:在低能量密度激光条件下,热弹性效应对半导体材料的影响很小;载流子温度达到峰值的时间比激光强度达到峰值的时间早,随后载流子数密度达到峰值,以及激光脉冲作用5ps以后硅膜趋于总体热平衡;在脉冲辐照早期,非热平衡阶段形成的热电子崩力在超快损伤过程中起主要作用。

PC型HgCdTe光电探测器在双波段组合激光辐照下的温升计算912-916

摘要:把传统漂移扩散模型和热传导方程相结合,模型中波段内正常探测信号激光作为背景光,波段外激光作为干扰和毁伤用激光,考虑波段内激光的本征载流子带间跃迁吸收和波段外激光的自由载流子带内跃迁吸收的光吸收机制.以及器件温升与载流子寿命、浓度、迁移率和光吸收系数等材料参数之间的相互影响,数值计算了PC型HgCdTe光电探测器在双波段组合激光辐照下的温度响应过程,得到了不同功率密度的波段内和波段外激光组合辐照对探测器温升的影响,以及使探测器达到破坏阈值温度的波段外激光辐照时间。结果证实了波段内背景激光辐照是增大波段外激光吸收系数,从而降低波段外激光破坏阈值的有效途径;较低功率密度的波段内背景激光辐照可极大缩短波段外激光的破坏时间.波段外激光毁伤存在最高效率点。

可见光CCD的光致过饱和现象917-920

摘要:报道了可见光CCD的过饱和状态——在强光辐照下,CCD输出图像中的白色饱和区域内出现黑色盲区。介绍了相机成像系统的信号处理过程和CCD的4种基本输出波形,给出了这4种波形的信号在经过相关双采样电路处理之后的结果和对应的CCD的4种基本输出图像效果,即无光照的黑区、弱光照的灰区、光照饱和的白区和强光致过饱和的黑色盲区(即过饱和状态)。过饱和状态CCD的输出信号波形中,复位电平发生改变而与处于饱和的数据电平持平。使该信号在经过相关双采样电路处理后变为零输出,造成CCD输出图像中的白色饱和光斑中间出现黑色盲区。

φ500mm阵列透镜波前采样器的研制921-924

摘要:设计加工了一个由484块单透镜组成的大口径阵列透镜,并设计了一套光束波前采样及测量实验系统。在实验过程中,合理匹配了阵列透镜波前采样器、CCD、成像屏和图像采集处理各系统参数,并讨论了该系统的动态范围和采样精度。利用平行光标定了该系统,且测量了大口径波前的像差,测量值与理论值相吻合。实验证明了阵列透镜波前采样器用于波前采样的技术可行性。

非均匀偏振光束通过环状光阑的传输925-929

摘要:使用光束相干偏振矩阵方法,推导出非均匀偏振光束通过环状光阑后偏振度和光强分布的表达式,研究了非均匀偏振光束通过环状光阑后偏振度和光强的变化。结果表明,在横平面上通常偏振度为非均匀分布,但在中心区域近似为均匀分布,均匀分布范围与非均匀偏振光束参数、光阑遮拦比和传输距离有关。初始为均匀分布的光强通过光阑后变为具有中心主极大和小衍射旁瓣的非均匀分布。

强激光与粒子束杂志ICF与激光等离子体
辐射场非平衡性对CH薄膜烧蚀特性的影响930-934

摘要:为研究辐射场非平衡性对ICF内爆靶丸辐射烧蚀效果的影响,在普朗克谱的高频区(Au的M带)叠加高斯谱人为地构造辐射源的能谱,利用1维多群辐射输运流体力学程序RDMG模拟CH薄膜的烧蚀过程,考察烧蚀压、预热、压缩比、冲击波速度等物理量受辐射场非平衡性的影响。模拟结果表明,Au的M带辐射有明显的增强预热、减小冲击波压缩比的作用,从而间接地影响了烧蚀冲击波的速度。

高抗激光损伤阈值介孔SiO2减反射膜935-938

摘要:用P123作模板剂.通过正硅酸乙酯的水解缩聚和溶剂蒸发白组装过程在K9玻璃上制备介孔SiO2膜。应用FT-IR,XRD,N2吸附-脱附,AFM和UV-Vis表征手段研究了薄膜的介孔结构和光学性能,并使用“R-on-1”模式,以Nd:YAG脉冲激光(9.2ns,1064nm)测试了薄膜的激光损伤阈值。结果表明:所镀制单层介孔SiO2膜具有规整的2Dp6 mm长周期结构,为SBA-15型,膜层表面比较平整(均方根粗糙度为2.923nm),在1064nm处的透过率为99.5%,换算为激光脉宽为1ns时,膜层的激光损伤阈值为21.6J/cm^2,显示出了较好的减反性能和抗激光损伤性能。

溶胶-凝胶SiO2酸性膜与碱性膜的激光损伤行为939-942

摘要:采用溶胶-凝胶技术分别在K9基片上镀制了光学厚度相近的单层SiO2酸性膜和碱性膜。测试了两类薄膜的激光损伤阈值;分别采用透射式光热透镜技术、椭偏仪、原子力显微镜、扫描电镜和光学显微镜研究了两类薄膜的热吸收、孔隙率、微观表面形貌、激光辐照前薄膜的杂质和缺陷状况以及激光辐照后薄膜的损伤形貌。实验结果表明:相对于碱性膜,酸性膜有更大的热吸收和更小的孔隙率,因此其激光损伤阈值较小;两类薄膜不同的损伤形貌与薄膜的热吸收系数与微观结构有关。

激光参数影响太赫兹辐射的数值模拟943-947

摘要:利用2维PIC程序模拟了聚焦激光脉冲垂直入射非均匀等离子体,在界面激发超强太赫兹辐射的物理过程,研究了激光强度、脉宽和焦斑半径对太赫兹辐射功率和频率的影响,并和模式转换理论作了对比。结果表明:激光强度是影响太赫兹辐射功率的主要因素;当脉宽在等离子体波长附近时,激起的静电波振幅最大,此时对应的太赫兹辐射最强;同时存在一个最优的焦斑半径,使得辐射功率最大。

X射线分幅相机不同直流偏置下的皮秒选通特性948-950

摘要:利用SILEX—I装置打靶产生的亚皮秒X射线源研究了X射线分幅相机不同直流偏置下的选通特性。建立了曝光时间的X射线点源测量方法,基于系统原理定义了相机的动态增益。实验发现:与不加直流偏置相比,加载-100V时曝光时间展宽10ps,动态增益增大到4.5倍。动态增益增幅较理论模拟值偏大,加载负偏压可能改变了初始光电子的动力学特性。

双短脉冲驱动的瞬态电子碰撞激发类镍银13.9nm X光激光951-955

摘要:研究了两个皮秒短脉冲驱动的瞬态电子碰撞激发类镍银13.9nm X光激光,考察了脉宽分别为1,2,3ps驱动的情况,分别给出了输出X光激光的角分布特性。模拟表明,(330ps,1ps,1ps)驱动条件下,第二短脉冲延迟约500ps,可以充分利用临界面附近的高增益。通过与相同长脉冲条件下单短脉冲驱动的结果相比较,分析了第一个短脉冲的作用及双脉冲驱动的优点。

溶胶-凝胶SiO2薄膜氨热两步后处理956-960

摘要:以正硅酸乙酯为前驱体,氨水作催化剂,采用溶胶-凝胶法提拉镀制SiO2双面膜,对薄膜进行氨处理和热处理。采用椭偏仪、分光光度计、红外光谱、扫描探针显微镜、静滴接触角测量仪表征薄膜的特性。研究表明:经氨热两步后处理,膜厚持续减小,折射率经氨处理先增大了0.236,再经热处理又减小了0.202,膜层透光性变好,透过率峰值持续向短波方向移动;经两步后处理的膜面平整度明显变好,与水的接触角先增大到58.92°后减小到38.07°。