噻吩和苯并噻吩在原位氢存在下的还原脱硫

作者:郭秀燕; 李术元; 刘峰; 岳长涛

摘要:研究了噻吩和苯并噻吩在原位氢和硼化镍存在下的还原脱硫。实验对操作条件进行了优化;研究了可能的反应机理。结果表明,六水合氯化镍与还原剂于质子溶剂中反应的对硫化物脱硫,产生的原位氢脱硫活性较高;还原剂用量为0.64 g时,脱硫率可达99%以上。噻吩和苯并噻吩脱硫主要发生直接氢解反应;少量苯并噻吩脱硫经由加氢途径进行,硫化物主要通过S原子"端连吸附"在硼化镍表面。推测反应机理为,反应中大量原位氢吸附在硼化镍表面并活化;硼化镍中富电子镍介入硫化物分子中C-S键形成加合物,与活性原位氢进一步作用,使C-S和C-C键断裂。

分类:
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关键词:
  • 原位氢
  • 硼化镍
  • 还原脱硫

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期刊名称:化学工程

期刊级别:北大期刊

期刊人气:6095

杂志介绍:
主管单位:国华陆工程科技有限责任公司
主办单位:中国华陆工程科技有限责任公司
出版地方:陕西
快捷分类:工业
国际刊号:1005-9954
国内刊号:61-1136/TQ
邮发代号:52-52
创刊时间:1972
发行周期:月刊
期刊开本:A4
下单时间:1-3个月
复合影响因子:0.44
综合影响因子:0.48