厚朴愈伤组织诱导条件的优化
作者：何培琦 方小平 乙引
摘要：为了优化出厚朴顶芽愈伤组织诱导的最适培养条件,以MS为基本培养基,探讨了6-BA、NAA、2,4-D以及光照对厚朴顶芽诱导的影响。结果表明：厚朴顶芽诱导的最适培养基为MS＋2.0 mg/L2,4-D＋0.5 mg/L 6-BA＋1.0 mg/L NAA＋30 g/L蔗糖＋8 g/L琼脂,pH 5.8,培养13 d后,顶芽诱导出愈伤组织。诱导出的顶芽愈伤组织在温度（25±2）℃,光周期为12h/d,光照强度为1 500~2 000 lx条件下进行光培养,其比暗培养[（25±2℃）]差。
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关键词：
- 厚朴
- 顶芽
- 组织培养
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