在不同衬底上生长ZnO薄膜及其特性研究

作者:何建廷 魏芹芹 杨淑连 李田泽

摘要:在不同衬底温度下用脉冲激光沉积法(PLD)分别在n-si(111)、蓝宝石(001)和非晶石英衬底上生长了ZnO薄膜。首先对薄膜进行了X射线衍射(XRD)分析,找出在三种不同衬底上制得的结晶质量最好的ZnO薄膜所对应的最佳衬底温度。然后对最佳衬底温度下得到的ZnO薄膜分别进行了X射线衍射(XRD)、光致发光谱(PL)和原子力显微镜(AFM)分析。结果表明,在硅衬底上生长的ZnO薄膜XRD谱半高宽最小,PL谱特征发光峰强度最强,AFM下的平均粒径最大,说明硅衬底上生长的ZnO薄膜结晶质量最好,而在石英衬底上生长的ZnO薄膜结晶质量最差。

分类:
  • 期刊
  • >
  • 自然科学与工程技术
  • >
  • 信息科技
  • >
  • 无线电电子学
收录:
  • 上海图书馆馆藏
  • 维普收录(中)
  • 万方收录(中)
  • SA 科学文摘(英)
  • 国家图书馆馆藏
  • CA 化学文摘(美)
  • JST 日本科学技术振兴机构数据库(日)
  • 北大期刊(中国人文社会科学期刊)
  • 知网收录(中)
  • 统计源期刊(中国科技论文优秀期刊)
关键词:
  • zno薄膜
  • 衬底
  • 脉冲激光沉积
  • xrd
  • pl
  • afm

注:因版权方要求,不能公开全文,如需全文,请咨询杂志社

期刊名称:电子元件与材料

期刊级别:北大期刊

期刊人气:8204

杂志介绍:
主管单位:工业和信息化部
主办单位:中国电子学会;中国电子元件行业协会;国营第715厂
出版地方:四川
快捷分类:电子
国际刊号:1001-2028
国内刊号:51-1241/TN
邮发代号:62-36
创刊时间:1982
发行周期:月刊
期刊开本:A4
下单时间:1-3个月
复合影响因子:0.43
综合影响因子:0.68