ZnO和ZAO薄膜磁控溅射等离子体发射光谱
作者：韩力 熊予莹
摘要：采用在线测试等离子体发射光谱的方法，研究了ZnO薄膜和ZAO薄膜磁控溅射生长等离子体的状态，分析了ZAO薄膜生长过程中的工作压强、溅射功率和衬底温度这几个重要参数对等离子体状态影响的规律。结果表明：主要是等离子体中粒子的密度随实验参数发生规律性变化，其变化规律与实验参数对薄膜生长质量影响的规律基本一致，可以定性地解释影响薄膜结晶质量的直接原因。最佳参数为：压强0．2Pa，功率80W和温度450℃。
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关键词：
- 无机非金属材料
- zao薄膜
- 等离子体
- 发射光谱
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