Altera在20nm工艺技术上的三大创新

作者:丛秋波

摘要:日前,Altera公司公开了在其下一代20nm产品中规划的几项关键创新技术,并延续在硅片融合上的承诺。Altera公司资深副总裁兼首席技术官MishaBurich在接受本刊记者采访时说,Altera在20nm的体系结构、软件和工艺的创新,大幅度提高了下一代FPGA的性能、带宽、集成度和功效,并能支持更强大的混合系统架构的开发。

分类:
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  • 无线电电子学
收录:
  • 万方收录(中)
  • 国家图书馆馆藏
  • 知网收录(中)
  • 上海图书馆馆藏
  • 维普收录(中)
关键词:
  • fpga
  • 20nm工艺制程
  • altera

注:因版权方要求,不能公开全文,如需全文,请咨询杂志社

期刊名称:电子设计技术

期刊级别:部级期刊

期刊人气:1286

杂志介绍:
主管单位:中华人民共和国信息产业部
主办单位:中国电子报社
出版地方:北京
快捷分类:电子
国际刊号:1023-7364
国内刊号:11-3617/TN
邮发代号:
创刊时间:1994
发行周期:月刊
期刊开本:A4
下单时间:1个月内
复合影响因子:0.05
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