用LiAlH4一步还原白炭黑制取多孔硅的研究
作者:汪徐春; 张雪梅; 叶祥桔; 陈俊明; 过家好; 张婷; 毛杰; 陈忠平
摘要:多孔硅因其独特高效的光电效应而日益成为国内外研究的热点。在温度为450℃和500℃的条件下,采用LiAlH4热还原白炭黑(微米或纳米级二氧化硅)一步制得多孔硅,并利用XRD、红外光谱、扫描电镜、固体发射光谱等对实验产物进行了表征和分析。所提出的方法既绿色环保,又经济实惠,具有潜在的应用和推广价值。
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