溅射气压对磁控溅射Mo背电极层形貌与结构的影响
作者：宋斌斌; 于涛; 张传升; 李博研; 李新连; 郭凯; 左宁; 赵树利; 陈颉
摘要：采用直流磁控溅射法在溅射气压为0.1-1.0Pa下制备了金属Mo膜。用扫描电子显微镜（SEM）和原子力显微镜（AFM）对单层Mo膜的表面、断面形貌和粗糙度进行了分析与表征;用X射线衍射（XRD）研究了气压对Mo膜晶粒尺寸和薄膜应力应变的影响;用SEM观察了双层和三层Mo背电极层的表面形貌。结果表明,溅射气压升高,表面颗粒由细长变得圆润,均方根粗糙度升高,其值介于1.32-4.81nm之间;Mo膜的晶粒尺寸随气压的升高而降低,其值介于27.2-11.7nm之间;溅射气压为0.2Pa和0.3Pa时制备的Mo膜显现为张应力;将双层Mo背电极表面制备0.7Pa的Mo层后,表面更加圆润,孔隙增多。
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关键词：
- 磁控溅射
- cigs
- mo背电极
- 溅射气压
- 形貌结构
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