溅射气压对HfO2薄膜结构和光学性能的影响
作者：马紫微 苏玉荣 谢毅柱 赵海廷 刘利新 李健 谢二庆
摘要：HfO2薄膜的结构和光学性能与反应溅射时使用的气压有很强的依赖关系。薄膜的晶粒生长取向、生长速率和折射率明显受溅射气压的影响。所有的薄膜均为单斜相，晶粒尺寸在纳米量级。薄膜的折射率在1．92～2．08G围内变化，透过率大于85％。结果表明，这些HfO2薄膜很适宜用作增透膜或者高反膜。此外，通过TauC公式推出光学带隙在5．150-5．433eV范围内变化，表明样品是良好的绝缘体。
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关键词：
- hfo2薄膜溅射法光学性能光学带隙
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